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2. 반도체 파운드리서비스,PECVD 공정,국내 유일 단위 공정 서비스 가능,저온 공정으로 막질 damage 최소화
TEOS(TETRAETHOXYSILAN) 와 O₂ 가스를 RF플라즈마를 사용하여 실리콘웨이퍼 위에 SiO2 막질을 증착하는 공정으로 낮은 온도에서 공정이 진행되기 때문의 막질 스트레스가 적고 빠른 증착률이 가능하여 높은 두께의 SiO2 막질을 형성할 수 있다.
(주*******
회사명
원산지: 한국
모델번호: PECVD 공정
브랜드: 세미로드
가격:
회사소재: 대한민국 경기도 파주시